يېرىم ئۆتكۈزگۈچ جەريانىدىكى خىمىيىلىك ماددىلار

يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ياساش ئاساسەن خىمىيىلىك مۇناسىۋەتلىك جەريان بولۇپ ،% 20 گە يېقىن جەريان باسقۇچلىرى تازىلاش ۋە يەر يۈزى تەييارلاش:

بىز ۋافېر توقۇلمىسىدا ئىشلىتىلىدىغان خىمىيىلىك ماتېرىياللارنى ئوخشىمىغان خىمىيىلىك شەكىلدە (سۇيۇقلۇق ۋە گازلىق) كېلىدىغان ۋە ساپلىقتا قاتتىق كونترول قىلىنىدىغان جەريان خىمىيىلىك ماددىلىرى دەپ ئاتاشقا ئادەتلەنگەن.بۇ جەرياندىكى خىمىيىلىك ماددىلارنىڭ ئاساسلىق ئىقتىدارلىرى تۆۋەندىكىچە:

ھۆل خىمىيىلىك ئېرىتمە ۋە ئۇلترا بىنەپشە سۇ بىلەن ۋافېر يۈزىنى پاكىزلاش

P تىپلىق ياكى N تىپلىق كرېمنىي ماتېرىياللىرىغا ئېرىشىش ئۈچۈن يۇقىرى ئېنېرگىيىلىك ئىئون بىلەن دوپپىنلىق كرېمنىيلىق ۋافېر.

ئوخشىمىغان مېتال ئۆتكۈزگۈچ قەۋىتى ۋە زۆرۈر دىئېلېكترىك قەۋەتلەرنى ئۆتكۈزگۈچ قەۋىتى ئارىسىغا قويۇش

نېپىز SiO2 قەۋىتىنى ھاسىل قىلىپ ، MOS ئۈسكۈنىلىرىنىڭ ئاساسلىق دەرۋازا ئېلېكتر ماتېرىيالى.

پلازما كۈچەيتىلگەن قىچىشقاق ياكى ھۆل رېئاكتور ئىشلىتىپ ماتېرىياللارنى تاللاڭ ۋە فىلىمدە لازىملىق ئەندىزە ھاسىل قىلىڭ.

سۇيۇقلۇق يۇقىرى ساپلىقتىكى رېئاكتورلار ساپلىقىغا ئاساسەن UP-S ، UP ۋە EL دىن ئىبارەت ئۈچ دەرىجىگە ئايرىلىدۇ ، EL يەنە ئىككىگە بۆلىنىدۇ:

ئېلېكترونلۇق 1-دەرىجە (EL-Ⅰ)
مېتالنىڭ ساپلىقى 100-1000 PPb بولۇپ ، بۇ SEMI C1 C2 ئۆلچىمىگە باراۋەر.

ئېلېكترونلۇق 2-دەرىجە (EL-Ⅱ)
ئۇنىڭ مېتال نىجاسەت مىقدارى 10-100 PPb بولۇپ ، SEMI C7 ئۆلچىمىگە باراۋەر.

ئېلېكترونلۇق 3-دەرىجە (EL-Ⅲ)
مېتال ساپلىق دەرىجىسى 1-10 PPb بولۇپ ، بۇ SEMI C7 ئۆلچىمىگە باراۋەر.

ئېلېكترونلۇق 4-دەرىجە (EL-IV)
مېتالنىڭ ساپلىقى 0.1-1PPb بولۇپ ، بۇ SEMI C8 ئۆلچىمىگە باراۋەر.

دەرىجىدىن تاشقىرى پاكىز ۋە يۇقىرى ساپلىقتىكى رېئاكتورلار خەلقئارادا پىششىقلاپ ئىشلەنگەن خىمىيىلىك ماددىلار دەپمۇ ئاتىلىدۇ ، ھۆل خىمىيىلىك ماددىلار دەپمۇ ئاتىلىدۇ ، ئۇ توپلاشتۇرۇلغان توك يولى (IC) ۋە ئىنتايىن چوڭ تىپتىكى توپلاشتۇرۇلغان توك يولى (VLSI) ئىشلەپچىقىرىش جەريانىدىكى ئاساسلىق ئاساسلىق خىمىيىلىك ماتېرىياللارنىڭ بىرى. .ئۇ يەنە كرېمنىيلىق ۋافېر يۈزىنى تازىلاش ۋە قىرىشقا ئىشلىتىلىدۇ.دەرىجىدىن تاشقىرى پاكىز ۋە يۇقىرى ساپلىقتىكى رېئاكتورلارنىڭ ساپلىقى ۋە پاكىزلىقى توپلاشتۇرۇلغان توك يولىنىڭ مەھسۇلات مىقدارى ، ئېلېكتر خۇسۇسىيىتى ۋە ئىشەنچلىكلىكىگە ئىنتايىن مۇھىم تەسىر كۆرسىتىدۇ.ئېلېكترونلۇق دەرىجىدىكى خىمىيىلىك ماددىلار ۋە يۇقىرى تېخنىكىلىق تەلەپلەر بار.ئۇ مىكرو ئېلېكترون تېخنىكىسىنى تەرەققىي قىلدۇرۇشنى ئاساس قىلىدۇ.مىكرو ئېلېكترون تېخنىكىسىنىڭ تەرەققىي قىلىشىغا ئەگىشىپ ، ئۇ ماس قەدەمدە ياكى مۇددەتتىن بۇرۇن تەرەققىي قىلىدۇ.شۇنىڭ بىلەن بىر ۋاقىتتا ، ئۇ مىكرو ئېلېكترون تېخنىكىسىنىڭ تەرەققىياتىنى چەكلەيدۇ.